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也可采用分步再生方法，使再生液浓度逐步加大，再生流速逐步减慢。一旦发现树脂中与硫酸钙沉淀时，目前常用的方法是先以大量软水进行反洗，然后再用～1％HCl（3个床体积）以L／h／L反复清洗，但须注意HCl及硫酸钙的溶解速度很慢，因此须多次清洗。另一方法是用EDT：钠盐，但价格很高，且是放热反应，使用时须注意。硅的污染及处理：硅化合物污染发生在强碱阴离子交换器中，尤其是在强、弱型阴树脂联合应用的设备和系统中，其结果往往导致阴离子交换器除硅效率下降。